Labsoft

LICHT
MIKROSKOPIE

Komplette Lösung für Industrie und Wissenschaftliche Labors von Stereo- Digital- Compound- und Konfokalmikroskope, CCD Kameras und Bildanalysesoftware

Mikroskopia Optyczna

AFM
MIKROSKOPE
UND PROFILOMETRIE

AFM und SPM Mikroskopie, grösste Auswahl von Operationsmodi und Messproben, Stylus und Optische Profilometer.

Mikroskopia AFM

ELEKTRONEN
MIKROSKOPE

Transmission- Raster- Dualstrahl-elektronenmikroskope, mit analytischen Zubehör – WDS, EDS, EBSD, Kriotechnik, Litographie, Mikromanipulatoren, vielfachige Probenvorbereitungzubehör

Mikroskopia Elektronowa

KUNDENDIENST,
UNTERSTüTZUNG

Fachunterstützung, Benutzerschulungen, Applikationshilfe für alle Geräte

Serwis techniczny

Dünnschicht Und
Oberflächemessung,
Beschichtungstechniek

RIE, CVD, ALD und MBE Reaktoren für Dünnschichten Bearbeitung, Tribometer, Ellipsometer, Scratch- und Härtetester

Badanie warstw

SI 500 PPD system

Sentech

Leider ist der Eintrag nur auf Polnisch verfügbar.

FAQ

  • (Polski) Jakiego typu materiały można osadzać przy wykorzystaniu reaktora SI 500 PPD?

    (Polski)

    Układ podawania gazów składa się z 5 linii (opcjonalnie dodatkowe linie gazowe) wyposażonych w filtry i kontrolery przepływu. Łatwe w obsłudze oprogramowanie umożliwia automatyczne i ręczne sterowanie procesami oraz tworzenie i wykonywanie własnych procedur technologicznych. Dzięki modularnej budowie reaktor można łatwo doposażyć w pompę turbomolekularną, spektrometr optyczny oraz generator LF o mocy do 500 W (stosowany do kontroli naprężeń osadzanych warstw).
    Urządzenie może być skonfigurowane do osadzania SiO2, SiNx, SiOxNy, oraz warstw a-Si. Możliwe jest również osadzanie innych związków krzemu, w tym SiC. Temperatura podłoża w trakcie procesów jest regulowana w zakresie od temperatury pokojowej do 400 °C.

  • (Polski) Jakie rozmiary i kształt powinna mieć próbka?

    (Polski)

    Możliwość osadzania na podłożach o rozmiarach do 8 cali oraz, przy wykorzystaniu specjalnych uchwytów, na fragmentach podłoży, w tym fragmentach o nieregularnych kształtach.

  • (Polski) Czy pomieszczenie, w którym będzie zainstalowane urządzenie, musi spełniać szczególne wymagania?

    (Polski)

    Dla wygody pracy z urządzeniem min. wymiary pomieszczenia to 3 x 4 m. Dodatkowo powinno zostać przewidziane miejsce na pomieszczenie techniczne na pompy próżniowe, skrzynki gazowe itd.. Niezbędne będą instalacje gazowe (gazy procesowe i techniczne) oraz instalacja wodna. W pomieszczeniu muszą znaleźć się wyciągi w suficie/ścianie, do odprowadzenia gazów procesowych.

Produkte

  • bruker
  • cryometal
  • edax
  • ThermoFisher Scientific
  • hwi
  • icdd
  • kleindiek
  • leica
  • phi
  • sentech
  • sios
  • spi
  • table
  • veeco

(Polski) Przypominamy o przetwarzaniu Twoich danych osobowych zgodnych z Rozporządzeniem Parlamentu Europejskiego i Rady (UE) 2016/679 z dnia 27 kwietnia 2016 r. oraz o zasadach, na jakich będzie się to odbywało. Zamykając ten komunikat, zgadzasz się w całości z regulaminem strony.
Twoje dane są u nas bezpieczne, a zgodę możesz wycofać w każdej chwili.