Labsoft

XRD, SCXRD DIFFRACTOMETERS,
EDXRF, WDXRF, μXRF SPECTROMETERS

Full range of powder and single crystal diffractometers and analytical XRF and microXRF spectrometers.

DYFRAKTOMETRY XRD, SCXRD

AFM
MIKROSKOPE
UND PROFILOMETRIE

AFM und SPM Mikroskopie, grösste Auswahl von Operationsmodi und Messproben, Stylus und Optische Profilometer.

Mikroskopia AFM

ELEKTRONEN
MIKROSKOPE

Transmission- Raster- Dualstrahl-elektronenmikroskope, mit analytischen Zubehör – WDS, EDS, EBSD, Kriotechnik, Litographie, Mikromanipulatoren, vielfachige Probenvorbereitungzubehör

Mikroskopia Elektronowa

KUNDENDIENST,
UNTERSTüTZUNG

Fachunterstützung, Benutzerschulungen, Applikationshilfe für alle Geräte

Serwis techniczny

Dünnschicht Und
Oberflächemessung,
Beschichtungstechniek

RIE, CVD, ALD und MBE Reaktoren für Dünnschichten Bearbeitung, Tribometer, Ellipsometer, Scratch- und Härtetester

Badanie warstw

SI 500 systems

Sentech

Leider ist der Eintrag nur auf Polnisch verfügbar.

FAQ

  • (Polski) Jakiego typu materiały można trawić przy wykorzystaniu reaktora SI 500?

    (Polski)

    Układ podawania gazów składa się z 4 linii (opcjonalnie więcej linii oraz dodatkowe skrzynki gazowe), wyposażonych w filtry i kontrolery przepływu. Urządzenie może być skonfigurowane do trawienia związków półprzewodnikowych z grupy III-V (GaAs, GaSb, InP, GaN, InSb, InGaAs), związków MCT, dielektryków, kwarcu, szkła, krzemu, związków krzemu (SiC, SiGe), oraz metali.

  • (Polski) Jakie rozmiary i kształt powinna mieć próbka?

    (Polski)

    Możliwość osadzania na podłożach o rozmiarach 8 cali oraz, przy wykorzystaniu specjalnych uchwytów, na podłożach mniejszych tj. 3, 4 oraz 6 cali i próbkach małych, o nieregularnych kształtach.

  • (Polski) Jakie modele są dostępne?

    (Polski)

    Dostępnych jest kilka modeli, które różnią się sposobem generacji plazmy, rozmiarem akceptowanych podłoży oraz dostępnością chłodzenia podłoży ciekłym azotem. Reaktory RIE można zestawić w postaci klastra.

    Modele:

      • SI 500 (ICP, 200 mm, -20 – 300 °C)
      • SI 500 C (ICP, ciekły N2, 200 mm, -150 – 400 °C)
      • SI 500-300 (ICP, 300 mm, -30 – 80 °C)
      • SI 500 RIE (CCP, 200 mm, -30 – 250 °C)
  • (Polski) Czy pomieszczenie, w którym będzie zainstalowane urządzenie, musi spełniać szczególne wymagania?

    (Polski)

    Dla wygody pracy z urządzeniem min. wymiary pomieszczenia to 3 x 4 m. Dodatkowo powinno zostać przewidziane miejsce na pomieszczenie techniczne na pompy próżniowe, skrzynki gazowe itd..  Niezbędne będą instalacje gazowe (gazy procesowe i techniczne) oraz instalacja wodna. W pomieszczeniu muszą znaleźć się wyciągi w suficie/ścianie, do odprowadzenia gazów procesowych.

Produkte

  • bruker
  • cryometal
  • edax
  • ThermoFisher Scientific
  • hwi
  • icdd
  • kleindiek
  • phi
  • sentech
  • sios
  • spi
  • table
  • veeco

(Polski) Przypominamy o przetwarzaniu Twoich danych osobowych zgodnych z Rozporządzeniem Parlamentu Europejskiego i Rady (UE) 2016/679 z dnia 27 kwietnia 2016 r. oraz o zasadach, na jakich będzie się to odbywało. Zamykając ten komunikat, zgadzasz się w całości z regulaminem strony.
Twoje dane są u nas bezpieczne, a zgodę możesz wycofać w każdej chwili.