FAQ

• (Polski) Jakiego typu materiały można trawić przy wykorzystaniu reaktora Etchlab 200?

  (Polski)

  Układ podawania gazów składa się z 2 linii (opcjonalnie do 8) wyposażonych w filtry i kontrolery przepływu. Łatwe w obsłudze oprogramowanie umożliwia automatyczne i ręczne sterowanie procesami oraz tworzenie i wykonywanie własnych procedur. Urządzenie może być skonfigurowane do trawienia m.in. związków krzemu, związków półprzewodnikowych z grup III-V, dielektryków oraz metali.

• (Polski) Jakie rozmiary i kształt powinna mieć próbka?

  (Polski)

  Możliwość osadzania na podłożach o rozmiarach od 4 do 8 cali oraz, przy wykorzystaniu specjalnych uchwytów, na podłożach mniejszych.

• (Polski) Jakie modele są dostępne?

  (Polski)

  Dostępnych jest kilka modeli:

  • Etchlab 200 (200 mm, podłoża wprowadzane są bezpośrednio do komory reakcyjnej)
  • Etchlab 200 loadlock (200 mm, komora załadowcza)
  • Etchlab 200-300 (300 mm)

• (Polski) Czy pomieszczenie, w którym będzie zainstalowane urządzenie, musi spełniać szczególne wymagania?

  (Polski)

  Dla wygody pracy z urządzeniem min. wymiary pomieszczenia to 3 x 4 m. Dodatkowo powinno zostać przewidziane miejsce na pomieszczenie techniczne na pompy próżniowe, skrzynki gazowe itd..  Niezbędne będą instalacje gazowe (gazy procesowe i techniczne) oraz instalacja wodna. W pomieszczeniu muszą znaleźć się wyciągi w suficie/ścianie, do odprowadzenia gazów procesowych.