XRD, SCXRD DIFFRACTOMETERS,
EDXRF, WDXRF, μXRF SPECTROMETERS
Full range of powder and single crystal diffractometers and analytical XRF and microXRF spectrometers.

(Polski)
Układ podawania gazów składa się z 4 linii (opcjonalnie do 8) wyposażonych w filtry i kontrolery przepływu. Łatwe w obsłudze oprogramowanie umożliwia automatyczne i ręczne sterowanie procesami, tworzenie i wykonywanie własnych procedur oraz rejestrację wszystkich danych procesowych. Urządzenie może być skonfigurowane do trawienia m.in. związków półprzewodnikowych z grup III-V oraz związków krzemu.
(Polski)
Możliwość osadzania na podłożach o rozmiarach 8 cali oraz, przy wykorzystaniu specjalnych uchwytów, na podłożach mniejszych tj. 3, 4 oraz 6 cali i próbkach małych, o nieregularnych kształtach.
(Polski)
Urządzenie, podobnie jak pozostałe reaktory (RIE, ICP-RIE, ALD i PECVD), może zostać zestawione w tzw. claster tool. Opcja z 6-cio portową komorą transferu, umożliwia w ten sposób połączenie ze sobą nawet 5 komór reakcyjnych. Jeden port przeznaczony jest na komorę załadowczą lub stację załadowczą.
(Polski)
Dla wygody pracy z urządzeniem min. wymiary pomieszczenia to 3 x 4 m. Dodatkowo powinno zostać przewidziane miejsce na pomieszczenie techniczne na pompy próżniowe, skrzynki gazowe itd.. Niezbędne będą instalacje gazowe (gazy procesowe i techniczne) oraz instalacja wodna. W pomieszczeniu muszą znaleźć się wyciągi w suficie/ścianie, do odprowadzenia gazów procesowych.