Labsoft

XRD, SCXRD DIFFRACTOMETERS,
EDXRF, WDXRF, μXRF SPECTROMETERS

Full range of powder and single crystal diffractometers and analytical XRF and microXRF spectrometers.

DYFRAKTOMETRY XRD, SCXRD

AFM
MIKROSKOPE
UND PROFILOMETRIE

AFM und SPM Mikroskopie, grösste Auswahl von Operationsmodi und Messproben, Stylus und Optische Profilometer.

Mikroskopia AFM

ELEKTRONEN
MIKROSKOPE

Transmission- Raster- Dualstrahl-elektronenmikroskope, mit analytischen Zubehör – WDS, EDS, EBSD, Kriotechnik, Litographie, Mikromanipulatoren, vielfachige Probenvorbereitungzubehör

Mikroskopia Elektronowa

KUNDENDIENST,
UNTERSTüTZUNG

Fachunterstützung, Benutzerschulungen, Applikationshilfe für alle Geräte

Serwis techniczny

Dünnschicht Und
Oberflächemessung,
Beschichtungstechniek

RIE, CVD, ALD und MBE Reaktoren für Dünnschichten Bearbeitung, Tribometer, Ellipsometer, Scratch- und Härtetester

Badanie warstw

ALD technique

Sentech

Leider ist der Eintrag nur auf Polnisch verfügbar.

FAQ

  • (Polski) Jakiego typu materiały można osadzać przy wykorzystaniu urządzenia ALD?

    (Polski)

    Konfiguracja może zawierać:

        • do 6 linii prekursorowych (np. Al, Si, Ti, Hf, Zn, woda)
        • do 7 linii gazowych dla PEALD (np. N2, O2, NH3, H2)

    System w tej postaci umożliwia osadzanie:

          • tlenków (Al2O3, TiO2, ZnO, HfO2, SiO2…)
          • azotków (AlN, TiN, SiN…)
          • metali tj. Pt, Ag, Cu
          • osadzanie struktur wielowarstwowych
          • osadzanie warstw jednorodnych/ciągłych i konformalnych na podłożach (od fragmentów do podłoży 8”) różnego typu i o różnych kształtach, w tym elementach 3D
  • (Polski) Jakie modele są dostępne?

    (Polski)

    Dostępne są modele:

        • SI ALD (próbka ładowana bezpośrednio do komory reakcyjnej)
        • SI ALD LL (ze komorą załadowczą)
        • SIPAR (jednokomorowy reaktor do ALD i PECVD z plazmą ICP)

    Reaktor umożliwia aktywację prekursorów w sposób konwencjonalny (tj. termiczny) oraz ze wspomaganiem plazmą (PEALD). Reaktory można doposażyć w źródło plazmy typu CCP umożliwiające prowadzenie procesu ALD w niskich temperaturach podłoża, komorę rękawicową oraz optyczny układ kontroli in-situ procesu. Ponadto, reaktory ALD można zestawić w postaci klastra z reaktorami RIE, i PECVD.

  • (Polski) Jakie rozmiary i kształt powinna mieć próbka?

    (Polski)

    Istnieje możliwość osadzania na podłożach o rozmiarach 4, 6, 8 cali oraz, przy wykorzystaniu specjalnych uchwytów, na podłożach mniejszych tj. 1 lub 2 cali i próbkach małych, o nieregularnych kształtach.

  • (Polski) Jakie są gabaryty urządzenia wraz z niezbędnymi elementami pomocniczymi?

    (Polski)

    Wymiary przybliżone (W x D x H) w cm: Komora procesowa 68,0 x 128,0 (bez load lock) x 184,0 Skrzynka zasilania 50,0 x 30,0 x 50,0 Pompy próżniowe 39,0 x 83,0 x 87,5 (komora procesowa); 19,0 x 52,0 x 27,0 (load lock) PC 35,0 x 40,0 x 10,0 Monitor 23” 55,0 x 20,0 x 50,0

  • (Polski) Czy pomieszczenie, w którym będzie zainstalowane urządzenie, musi spełniać szczególne wymagania?

    (Polski)

    Dla wygody pracy z urządzeniem min. wymiary pomieszczenia to 3 x 4 m. Dodatkowo powinno zostać przewidziane miejsce na pomieszczenie techniczne na pompy próżniowe, skrzynki gazowe itd..  Niezbędne będą instalacje gazowe (gazy procesowe i techniczne) oraz instalacja wodna. W pomieszczeniu muszą znaleźć się wyciągi w suficie/ścianie, do odprowadzenia gazów procesowych.

Produkte

  • bruker
  • cryometal
  • edax
  • ThermoFisher Scientific
  • hwi
  • icdd
  • kleindiek
  • phi
  • sentech
  • sios
  • spi
  • table
  • veeco

(Polski) Przypominamy o przetwarzaniu Twoich danych osobowych zgodnych z Rozporządzeniem Parlamentu Europejskiego i Rady (UE) 2016/679 z dnia 27 kwietnia 2016 r. oraz o zasadach, na jakich będzie się to odbywało. Zamykając ten komunikat, zgadzasz się w całości z regulaminem strony.
Twoje dane są u nas bezpieczne, a zgodę możesz wycofać w każdej chwili.