XRD, SCXRD DIFFRACTOMETERS,
EDXRF, WDXRF, μXRF SPECTROMETERS
Full range of powder and single crystal diffractometers and analytical XRF and microXRF spectrometers.

(Polski)
Konfiguracja może zawierać:
System w tej postaci umożliwia osadzanie:
(Polski)
Dostępne są modele:
Reaktor umożliwia aktywację prekursorów w sposób konwencjonalny (tj. termiczny) oraz ze wspomaganiem plazmą (PEALD). Reaktory można doposażyć w źródło plazmy typu CCP umożliwiające prowadzenie procesu ALD w niskich temperaturach podłoża, komorę rękawicową oraz optyczny układ kontroli in-situ procesu. Ponadto, reaktory ALD można zestawić w postaci klastra z reaktorami RIE, i PECVD.
(Polski)
Istnieje możliwość osadzania na podłożach o rozmiarach 4, 6, 8 cali oraz, przy wykorzystaniu specjalnych uchwytów, na podłożach mniejszych tj. 1 lub 2 cali i próbkach małych, o nieregularnych kształtach.
(Polski)
Wymiary przybliżone (W x D x H) w cm: Komora procesowa 68,0 x 128,0 (bez load lock) x 184,0 Skrzynka zasilania 50,0 x 30,0 x 50,0 Pompy próżniowe 39,0 x 83,0 x 87,5 (komora procesowa); 19,0 x 52,0 x 27,0 (load lock) PC 35,0 x 40,0 x 10,0 Monitor 23” 55,0 x 20,0 x 50,0
(Polski)
Dla wygody pracy z urządzeniem min. wymiary pomieszczenia to 3 x 4 m. Dodatkowo powinno zostać przewidziane miejsce na pomieszczenie techniczne na pompy próżniowe, skrzynki gazowe itd.. Niezbędne będą instalacje gazowe (gazy procesowe i techniczne) oraz instalacja wodna. W pomieszczeniu muszą znaleźć się wyciągi w suficie/ścianie, do odprowadzenia gazów procesowych.