Labsoft

LIGHT
MICROSCOPY

Complete solutions for industrial and research laboratories including stereoscope, digital, compound and confocal microscopes and CCD cameras and software

Mikroskopia Optyczna

ATOMIC FORCE
MICROSCOPY
AND PROFILOMETRY

AFM and SPM microscopes, wide range of operation modes and AFM probes, stylus and optical 3D surface profilers

Mikroskopia AFM

ELECTRON
MICROSCOPY
AND DUAL BEAM SYSTEMS

Full range of SEM, TEM and dual beam microscopes and analytical EDS, WDS, EBSD systems, cryo-techniques, litography, micromanipulators, sample preparation instruments and materials

Mikroskopia Elektronowa

SERVICE
AND SUPPORT

Specialized technical service, user training and application oriented suport

Serwis techniczny

THIN FILM
DEPOSITION,
SURFACE ANALYSIS

RIE, CVD, ALD and MBE reactors for surface modification and thin-film deposition, tribometers, scratch testers, ellipsometers and indentation testers for surface and layer characterization

Badanie warstw

Reaktor SI 500 D

Sentech

Sorry, this entry is only available in Polish.

FAQ

  • (Polski) Jakiego typu materiały można osadzać przy wykorzystaniu reaktora SI 500 D?

    (Polski)

    Układ podawania gazów składa się z 5 linii (opcjonalnie dodatkowe linie gazowe) wyposażonych w filtry i kontrolery przepływu. Łatwe w obsłudze oprogramowanie umożliwia automatyczne i ręczne sterowanie procesami oraz tworzenie i wykonywanie własnych procedur technologicznych.
    Urządzenie może być skonfigurowane do osadzania SiO2, SiNx, SiOxNy, oraz warstw a-Si. Możliwe jest również osadzanie innych związków krzemu, w tym SiC, oraz warstw diamentopodobnych (tj. DLC). Temperatura podłoża w trakcie procesów jest regulowana w zakresie od temperatury pokojowej do 400 °C. Duża gęstość niskoenergetycznych jonów generowana ze źródła ICP w połączeniu z jednorodnym rozkładem temperatury podłoża zapewnioną przez tzw. He-backside cooling, pozwala osadzać warstwy o wysokiej jakości nawet w temperaturach od 80 °C do 130 °C.

  • (Polski) Jakie rozmiary i kształt powinna mieć próbka?

    (Polski)

    Możliwość osadzania na podłożach o rozmiarach do 8 cali oraz, przy wykorzystaniu specjalnych uchwytów, na fragmentach podłoży, w tym fragmentach o nieregularnych kształtach.

  • (Polski) Czy pomieszczenie, w którym będzie zainstalowane urządzenie, musi spełniać szczególne wymagania?

    (Polski)

    Dla wygody pracy z urządzeniem min. wymiary pomieszczenia to 3 x 4 m. Dodatkowo powinno zostać przewidziane miejsce na pomieszczenie techniczne na pompy próżniowe, skrzynki gazowe itd.. Niezbędne będą instalacje gazowe (gazy procesowe i techniczne) oraz instalacja wodna. W pomieszczeniu muszą znaleźć się wyciągi w suficie/ścianie, do odprowadzenia gazów procesowych.

Products

  • bruker
  • cryometal
  • edax
  • ThermoFisher Scientific
  • hwi
  • icdd
  • kleindiek
  • leica
  • phi
  • sentech
  • sios
  • spi
  • table
  • veeco

(Polski) Przypominamy o przetwarzaniu Twoich danych osobowych zgodnych z Rozporządzeniem Parlamentu Europejskiego i Rady (UE) 2016/679 z dnia 27 kwietnia 2016 r. oraz o zasadach, na jakich będzie się to odbywało. Zamykając ten komunikat, zgadzasz się w całości z regulaminem strony.
Twoje dane są u nas bezpieczne, a zgodę możesz wycofać w każdej chwili.