Labsoft

XRD, SCXRD DIFFRACTOMETERS,
EDXRF, WDXRF, μXRF SPECTROMETERS

Full range of powder and single crystal diffractometers and analytical XRF and microXRF spectrometers.

DYFRAKTOMETRY XRD, SCXRD

ATOMIC FORCE
MICROSCOPY
AND PROFILOMETRY

AFM and SPM microscopes, wide range of operation modes and AFM probes, stylus and optical 3D surface profilers

Mikroskopia AFM

ELECTRON
MICROSCOPY
AND DUAL BEAM SYSTEMS

Full range of SEM, TEM and dual beam microscopes and analytical EDS, WDS, EBSD systems, cryo-techniques, litography, micromanipulators, sample preparation instruments and materials

Mikroskopia Elektronowa

SERVICE
AND SUPPORT

Specialized technical service, user training and application oriented suport

Serwis techniczny

THIN FILM
DEPOSITION,
SURFACE ANALYSIS

RIE, CVD, ALD and MBE reactors for surface modification and thin-film deposition, tribometers, scratch testers, ellipsometers and indentation testers for surface and layer characterization

Badanie warstw

SI 500 systems

Sentech

Sorry, this entry is only available in Polish.

FAQ

  • (Polski) Jakiego typu materiały można trawić przy wykorzystaniu reaktora SI 500?

    (Polski)

    Układ podawania gazów składa się z 4 linii (opcjonalnie więcej linii oraz dodatkowe skrzynki gazowe), wyposażonych w filtry i kontrolery przepływu. Urządzenie może być skonfigurowane do trawienia związków półprzewodnikowych z grupy III-V (GaAs, GaSb, InP, GaN, InSb, InGaAs), związków MCT, dielektryków, kwarcu, szkła, krzemu, związków krzemu (SiC, SiGe), oraz metali.

  • (Polski) Jakie rozmiary i kształt powinna mieć próbka?

    (Polski)

    Możliwość osadzania na podłożach o rozmiarach 8 cali oraz, przy wykorzystaniu specjalnych uchwytów, na podłożach mniejszych tj. 3, 4 oraz 6 cali i próbkach małych, o nieregularnych kształtach.

  • (Polski) Jakie modele są dostępne?

    (Polski)

    Dostępnych jest kilka modeli, które różnią się sposobem generacji plazmy, rozmiarem akceptowanych podłoży oraz dostępnością chłodzenia podłoży ciekłym azotem. Reaktory RIE można zestawić w postaci klastra.

    Modele:

      • SI 500 (ICP, 200 mm, -20 – 300 °C)
      • SI 500 C (ICP, ciekły N2, 200 mm, -150 – 400 °C)
      • SI 500-300 (ICP, 300 mm, -30 – 80 °C)
      • SI 500 RIE (CCP, 200 mm, -30 – 250 °C)
  • (Polski) Czy pomieszczenie, w którym będzie zainstalowane urządzenie, musi spełniać szczególne wymagania?

    (Polski)

    Dla wygody pracy z urządzeniem min. wymiary pomieszczenia to 3 x 4 m. Dodatkowo powinno zostać przewidziane miejsce na pomieszczenie techniczne na pompy próżniowe, skrzynki gazowe itd..  Niezbędne będą instalacje gazowe (gazy procesowe i techniczne) oraz instalacja wodna. W pomieszczeniu muszą znaleźć się wyciągi w suficie/ścianie, do odprowadzenia gazów procesowych.

Products

  • bruker
  • cryometal
  • edax
  • ThermoFisher Scientific
  • hwi
  • icdd
  • kleindiek
  • phi
  • sentech
  • sios
  • spi
  • table
  • veeco

(Polski) Przypominamy o przetwarzaniu Twoich danych osobowych zgodnych z Rozporządzeniem Parlamentu Europejskiego i Rady (UE) 2016/679 z dnia 27 kwietnia 2016 r. oraz o zasadach, na jakich będzie się to odbywało. Zamykając ten komunikat, zgadzasz się w całości z regulaminem strony.
Twoje dane są u nas bezpieczne, a zgodę możesz wycofać w każdej chwili.