Labsoft

XRD, SCXRD DIFFRACTOMETERS,
EDXRF, WDXRF, μXRF SPECTROMETERS

Full range of powder and single crystal diffractometers and analytical XRF and microXRF spectrometers.

DYFRAKTOMETRY XRD, SCXRD

ATOMIC FORCE
MICROSCOPY
AND PROFILOMETRY

AFM and SPM microscopes, wide range of operation modes and AFM probes, stylus and optical 3D surface profilers

Mikroskopia AFM

ELECTRON
MICROSCOPY
AND DUAL BEAM SYSTEMS

Full range of SEM, TEM and dual beam microscopes and analytical EDS, WDS, EBSD systems, cryo-techniques, litography, micromanipulators, sample preparation instruments and materials

Mikroskopia Elektronowa

SERVICE
AND SUPPORT

Specialized technical service, user training and application oriented suport

Serwis techniczny

THIN FILM
DEPOSITION,
SURFACE ANALYSIS

RIE, CVD, ALD and MBE reactors for surface modification and thin-film deposition, tribometers, scratch testers, ellipsometers and indentation testers for surface and layer characterization

Badanie warstw

ALD technique

Sentech

Sorry, this entry is only available in Polish.

FAQ

  • (Polski) Jakiego typu materiały można osadzać przy wykorzystaniu urządzenia ALD?

    (Polski)

    Konfiguracja może zawierać:

      • do 6 linii prekursorowych (np. Al, Si, Ti, Hf, Zn, woda)
      • do 7 linii gazowych dla PEALD (np. N2, O2, NH3, H2)
      • System w tej postaci umożliwia osadzanie:

          • tlenków (Al2O3, TiO2, ZnO, HfO2, SiO2…)
          • azotków (AlN, TiN, SiN…)
          • metali tj. Pt, Ag, Cu
          • osadzanie struktur wielowarstwowych
          • osadzanie warstw jednorodnych/ciągłych i konformalnych na podłożach (od fragmentów do podłoży 8”) różnego typu i o różnych kształtach, w tym elementach 3D
  • (Polski) Jakie modele są dostępne?

    (Polski)

    Dostępne są modele:

      • SI ALD (próbka ładowana bezpośrednio do komory reakcyjnej)
      • SI ALD LL (ze komorą załadowczą)
      • SIPAR (jednokomorowy reaktor do ALD i PECVD z plazmą ICP)
      • Reaktor umożliwia aktywację prekursorów w sposób konwencjonalny (tj. termiczny) oraz ze wspomaganiem plazmą (PEALD). Reaktory można doposażyć w źródło plazmy typu CCP umożliwiające prowadzenie procesu ALD w niskich temperaturach podłoża, komorę rękawicową oraz optyczny układ kontroli in-situ procesu. Ponadto, reaktory ALD można zestawić w postaci klastra z reaktorami RIE, i PECVD.

  • (Polski) Jakie rozmiary i kształt powinna mieć próbka?

    (Polski)

    Istnieje możliwość osadzania na podłożach o rozmiarach 4, 6, 8 cali oraz, przy wykorzystaniu specjalnych uchwytów, na podłożach mniejszych tj. 1 lub 2 cali i próbkach małych, o nieregularnych kształtach.

  • (Polski) Jakie są gabaryty urządzenia wraz z niezbędnymi elementami pomocniczymi?

    (Polski)

    Wymiary przybliżone (W x D x H) w cm: Komora procesowa 68,0 x 128,0 (bez load lock) x 184,0 Skrzynka zasilania 50,0 x 30,0 x 50,0 Pompy próżniowe 39,0 x 83,0 x 87,5 (komora procesowa); 19,0 x 52,0 x 27,0 (load lock) PC 35,0 x 40,0 x 10,0 Monitor 23” 55,0 x 20,0 x 50,0

  • (Polski) Czy pomieszczenie, w którym będzie zainstalowane urządzenie, musi spełniać szczególne wymagania?

    (Polski)

    Dla wygody pracy z urządzeniem min. wymiary pomieszczenia to 3 x 4 m. Dodatkowo powinno zostać przewidziane miejsce na pomieszczenie techniczne na pompy próżniowe, skrzynki gazowe itd..  Niezbędne będą instalacje gazowe (gazy procesowe i techniczne) oraz instalacja wodna. W pomieszczeniu muszą znaleźć się wyciągi w suficie/ścianie, do odprowadzenia gazów procesowych.

Products

  • bruker
  • cryometal
  • edax
  • ThermoFisher Scientific
  • hwi
  • icdd
  • kleindiek
  • phi
  • sentech
  • sios
  • spi
  • table
  • veeco

(Polski) Przypominamy o przetwarzaniu Twoich danych osobowych zgodnych z Rozporządzeniem Parlamentu Europejskiego i Rady (UE) 2016/679 z dnia 27 kwietnia 2016 r. oraz o zasadach, na jakich będzie się to odbywało. Zamykając ten komunikat, zgadzasz się w całości z regulaminem strony.
Twoje dane są u nas bezpieczne, a zgodę możesz wycofać w każdej chwili.