Labsoft

Mikroskopia
Optyczna

Pełna oferta dla laboratoriów przemysłowych i badawczych obejmująca mikroskopy stereoskopowe, cyfrowe, złożone i konfokalne oraz kamery i oprogramowanie

Mikroskopia Optyczna

MIKROSKOPIA
SIŁ ATOMOWYCH
I PROFILOMETRIA

Mikroskopy AFM i SPM, szeroki wybór trybów pracy i sond AFM, profilometry optyczne i stykowe

Mikroskopia AFM

MIKROSKOPIA ELEKTRONOWA
TEM, STEM, SEM, DB

Kompletna oferta mikroskopów EM i wyposażenia analitycznego EDS, WDS, EBSP, oraz techniki kriogeniczne, litografia, mikromanipulatory, instrumenty i materiały do preparatyki próbek

Mikroskopia Elektronowa

SERWIS
I WSPARCIE

Specjalistyczny serwis techniczny i obsługa oferowanego sprzętu, szkolenia użytkowników i wsparcie aplikacyjne

Serwis techniczny

WYTWARZANIE
WARSTW, BADANIE POWIERZCHNI

Reaktory RIE, CVD, ALD i MBE do modyfikowania powierzchni i nakładania warstw oraz tribometry, scratch testery, elipsometry i twardościomierze do badania ich właściwości

Badanie warstw

Reaktory SI 500

Sentech

Uniwersalne systemy SI 500 firmy SENTECH Instruments GmbH do reaktywnego trawienia jonowego (RIE) różnych materiałów umożliwiają prowadzenie nawet najbardziej wymagających procesów w sposób powtarzalny. W zależności od modelu plazma jest generowana indukcyjnie (ICP) lub pojemnościowo (CCP). Komora reakcyjna wykonana jest z aluminium bez połączeń spawanych i skręcanych. Podłoża wprowadzane są przez komorę ładowania, wyposażoną w transfer. Ciśnienie w komorach jest kontrolowane przez automatyczny układ próżniowy. Łatwe w obsłudze oprogramowanie umożliwia automatyczne i ręczne sterowanie procesami oraz tworzenie i wykonywanie własnych procedur. Systemy SI 500 dedykowane są dla przemysłu oraz laboratoriów badawczo-rozwojowych.

formularz kontaktowy

FAQ

  • Jakiego typu materiały można trawić przy wykorzystaniu reaktora SI 500?

    Układ podawania gazów składa się z 4 linii (opcjonalnie więcej linii oraz dodatkowe skrzynki gazowe), wyposażonych w filtry i kontrolery przepływu. Urządzenie może być skonfigurowane do trawienia związków półprzewodnikowych z grupy III-V (GaAs, GaSb, InP, GaN, InSb, InGaAs), związków MCT, dielektryków, kwarcu, szkła, krzemu, związków krzemu (SiC, SiGe), oraz metali.

  • Jakie rozmiary i kształt powinna mieć próbka?

    Możliwość osadzania na podłożach o rozmiarach 8 cali oraz, przy wykorzystaniu specjalnych uchwytów, na podłożach mniejszych tj. 3, 4 oraz 6 cali i próbkach małych, o nieregularnych kształtach.

  • Jakie modele są dostępne?

    Dostępnych jest kilka modeli, które różnią się sposobem generacji plazmy, rozmiarem akceptowanych podłoży oraz dostępnością chłodzenia podłoży ciekłym azotem. Reaktory RIE można zestawić w postaci klastra.

    Modele:

      • SI 500 (ICP, 200 mm, -20 – 300 °C)
      • SI 500 C (ICP, ciekły N2, 200 mm, -150 – 400 °C)
      • SI 500-300 (ICP, 300 mm, -30 – 80 °C)
      • SI 500 RIE (CCP, 200 mm, -30 – 250 °C)
  • Czy pomieszczenie, w którym będzie zainstalowane urządzenie, musi spełniać szczególne wymagania?

    Dla wygody pracy z urządzeniem min. wymiary pomieszczenia to 3 x 4 m. Dodatkowo powinno zostać przewidziane miejsce na pomieszczenie techniczne na pompy próżniowe, skrzynki gazowe itd..  Niezbędne będą instalacje gazowe (gazy procesowe i techniczne) oraz instalacja wodna. W pomieszczeniu muszą znaleźć się wyciągi w suficie/ścianie, do odprowadzenia gazów procesowych.

Oferta

  • bruker
  • cryometal
  • edax
  • fei
  • hwi
  • icdd
  • kleindiek
  • leica
  • phi
  • sentech
  • sios
  • spi
  • table
  • veeco