Labsoft

Mikroskopia
Optyczna

Pełna oferta dla laboratoriów przemysłowych i badawczych obejmująca mikroskopy stereoskopowe, cyfrowe, złożone i konfokalne oraz kamery i oprogramowanie

Mikroskopia Optyczna

MIKROSKOPIA
SIŁ ATOMOWYCH
I PROFILOMETRIA

Mikroskopy AFM i SPM, szeroki wybór trybów pracy i sond AFM, profilometry optyczne i stykowe

Mikroskopia AFM

MIKROSKOPIA ELEKTRONOWA
TEM, STEM, SEM, DB

Kompletna oferta mikroskopów EM i wyposażenia analitycznego EDS, WDS, EBSP, oraz techniki kriogeniczne, litografia, mikromanipulatory, instrumenty i materiały do preparatyki próbek

Mikroskopia Elektronowa

SERWIS
I WSPARCIE

Specjalistyczny serwis techniczny i obsługa oferowanego sprzętu, szkolenia użytkowników i wsparcie aplikacyjne

Serwis techniczny

WYTWARZANIE
WARSTW, BADANIE POWIERZCHNI

Reaktory RIE, CVD, ALD i MBE do modyfikowania powierzchni i nakładania warstw oraz tribometry, scratch testery, elipsometry i twardościomierze do badania ich właściwości

Badanie warstw

Reaktory Etchlab 200

Sentech

Etchlab 200 to podstawowe i ekonomiczne systemy firmy SENTECH Instruments GmbH do reaktywnego trawienia jonowego (RIE) różnych materiałów. Te proste systemy umożliwiają prowadzenie standardowych procesów obróbki jonowej z wysokim poziomem kontroli i powtarzalności. Dzięki modularnej budowie mogą być one stopniowo rozbudowane do pełnych systemów RIE, zapewniających pełną gamę procesów. Plazma jest generowana pojemnościowo (CCP) z wykorzystaniem generatora RF o częstotliwości 13,56 MHz i mocy 600 W. Komora reakcyjna wykonana jest z aluminium bez połączeń spawanych i skręcanych. Ciśnienie w komorze jest kontrolowane przez automatyczny układ próżniowy.

formularz kontaktowy

FAQ

  • Jakiego typu materiały można trawić przy wykorzystaniu reaktora Etchlab 200?

    Układ podawania gazów składa się z 2 linii (opcjonalnie do 8) wyposażonych w filtry i kontrolery przepływu. Łatwe w obsłudze oprogramowanie umożliwia automatyczne i ręczne sterowanie procesami oraz tworzenie i wykonywanie własnych procedur. Urządzenie może być skonfigurowane do trawienia m.in. związków krzemu, związków półprzewodnikowych z grup III-V, dielektryków oraz metali.

  • Jakie rozmiary i kształt powinna mieć próbka?

    Możliwość osadzania na podłożach o rozmiarach od 4 do 8 cali oraz, przy wykorzystaniu specjalnych uchwytów, na podłożach mniejszych.

  • Jakie modele są dostępne?

    Dostępnych jest kilka modeli:

      • Etchlab 200 (200 mm, podłoża wprowadzane są bezpośrednio do komory reakcyjnej)
      • Etchlab 200 loadlock (200 mm, komora załadowcza)
      • Etchlab 200-300 (300 mm)
  • Czy pomieszczenie, w którym będzie zainstalowane urządzenie, musi spełniać szczególne wymagania?

    Dla wygody pracy z urządzeniem min. wymiary pomieszczenia to 3 x 4 m. Dodatkowo powinno zostać przewidziane miejsce na pomieszczenie techniczne na pompy próżniowe, skrzynki gazowe itd..  Niezbędne będą instalacje gazowe (gazy procesowe i techniczne) oraz instalacja wodna. W pomieszczeniu muszą znaleźć się wyciągi w suficie/ścianie, do odprowadzenia gazów procesowych.

Oferta

  • bruker
  • cryometal
  • edax
  • fei
  • hwi
  • icdd
  • kleindiek
  • leica
  • phi
  • sentech
  • sios
  • spi
  • table
  • veeco