Mikroskopia
Optyczna
Pełna oferta dla laboratoriów przemysłowych i badawczych obejmująca mikroskopy stereoskopowe, cyfrowe, złożone i konfokalne oraz kamery i oprogramowanie
Technika (PE)CVD
Reaktor Depolab 200
Depolab 200 firmy SENTECH Instruments GmbH to podstawowy system do wspomaganego plazmą chemicznego osadzania warstw z fazy gazowej (PECVD). Reaktor umożliwia osadzanie standardowych warstw dielektrycznych na podłożach o średnicy do 200 mm. Plazma generowana jest pojemnościowo (CCP) z wykorzystaniem generatora RF o częstotliwości 13,56 MHz i mocy 300 W. Komora (…)
Reaktor SI 500 PPD
System SI 500 PPD firmy SENTECH Instruments GmbH służy do wspomaganego plazmą chemicznego osadzania warstw z fazy gazowej (PECVD). Reaktor umożliwia osadzanie warstw z prekursorów ciekłych i gazowych na podłożach o średnicy do 200 mm. Plazma generowana jest pojemnościowo (CCP) z wykorzystaniem generatora RF o częstotliwości 13,56 MHz i mocy (…)
Reaktor SI 500 D
System SI 500 D firmy SENTECH Instruments GmbH służy do wspomaganego plazmą chemicznego osadzania warstw z fazy gazowej (PECVD) i jest dedykowany do laboratoriów badawczych oraz przemysłowych, również na etapie produkcji pilotażowej. Reaktor umożliwia osadzanie warstw z prekursorów ciekłych i gazowych na podłożach o średnicy do 200 mm. Plazma generowana (…)
