Etchlab 200 to podstawowe i ekonomiczne systemy firmy SENTECH Instruments GmbH do reaktywnego trawienia jonowego (RIE) różnych materiałów. Te proste systemy umożliwiają prowadzenie standardowych procesów obróbki jonowej z wysokim poziomem kontroli i powtarzalności. Dzięki modularnej budowie mogą być one stopniowo rozbudowane do pełnych systemów RIE, zapewniających pełną gamę procesów. Plazma (…)

Modularne systemy SI 591 firmy SENTECH Instruments GmbH do reaktywnego trawienia jonowego (RIE) dedykowane są głównie dla półprzewodników III-V i krzemu. Wysoka jakość kontroli warunków obróbki jonowej umożliwia prowadzenie nawet najbardziej wymagających procesów w sposób powtarzalny. Plazma jest generowana pojemnościowo (CCP) z wykorzystaniem generatora RF o częstotliwości 13,56 MHz i (…)

Uniwersalne systemy SI 500 firmy SENTECH Instruments GmbH do reaktywnego trawienia jonowego (RIE) różnych materiałów umożliwiają prowadzenie nawet najbardziej wymagających procesów w sposób powtarzalny. W zależności od modelu plazma jest generowana indukcyjnie (ICP) lub pojemnościowo (CCP). Komora reakcyjna wykonana jest z aluminium bez połączeń spawanych i skręcanych. Podłoża wprowadzane są (…)