Reaktor MOCVD Propel™ firmy Veeco wykorzystywany jest do wytwarzania półprzewodnikowych urządzeń elektroniki mocy. Komora wzrostu wyposażona jest w platformę na jedno podłoże (6” i 8”, oraz specjalne uchwyty na podłoża mniejsze), na którym możliwe jest osadzanie wysokiej jakości warstw GaN. Przełomowe technologie zastosowane przy konstrukcji reaktora (TurboDisc®, IsoFlange™, SymmHeat™) zapewniają (…)

Reaktory SI ALD firmy Sentech Instruments służą do osadzania cienkich warstw techniką Atomic Layer Deposition (ALD). Reaktory te są przeznaczone do laboratoriów akademickich oraz do produkcji niskoskalowej. W trakcie procesu ALD, w wyniku kontrolowanego, sekwencyjnego wprowadzania do komory reakcyjnej prekursorów w fazie gazowej, które kolejno ulegają chemisorpcji na podłożu, tworzona (…)

Modele: GENxplore: podłoża ≤3”, komora wzrostu w konfiguracji pionowej, max. 10 komórek efuzyjnych, transfer ręczny, system badawczy GEN10: podłoża ≤3”, komora wzrostu w konfiguracji pionowej, max. 10 komórek efuzyjnych, transfer automatyczny, e-beam, system badawczy GEN930: podłoża ≤3”, komora wzrostu w konfiguracji pochylonej, 9(+2) komórek efuzyjnych, transfer ręczny, e-beam, system badawczy GEN20(A): podłoża ≥4”, komora wzrostu w konfiguracji (…)

Depolab 200 firmy SENTECH Instruments GmbH to podstawowy system do wspomaganego plazmą chemicznego osadzania warstw z fazy gazowej (PECVD). Reaktor umożliwia osadzanie standardowych warstw dielektrycznych na podłożach o średnicy do 200 mm. Plazma generowana jest pojemnościowo (CCP) z wykorzystaniem generatora RF o częstotliwości 13,56 MHz i mocy 300 W. Komora (…)