Labsoft

Mikroskopia
Optyczna

Pełna oferta dla laboratoriów przemysłowych i badawczych obejmująca mikroskopy stereoskopowe, cyfrowe, złożone i konfokalne oraz kamery i oprogramowanie

Mikroskopia Optyczna

MIKROSKOPIA
SIŁ ATOMOWYCH
I PROFILOMETRIA

Mikroskopy AFM i SPM, szeroki wybór trybów pracy i sond AFM, profilometry optyczne i stykowe

Mikroskopia AFM

MIKROSKOPIA ELEKTRONOWA
TEM, STEM, SEM, DB

Kompletna oferta mikroskopów EM i wyposażenia analitycznego EDS, WDS, EBSP, oraz techniki kriogeniczne, litografia, mikromanipulatory, instrumenty i materiały do preparatyki próbek

Mikroskopia Elektronowa

SERWIS
I WSPARCIE

Specjalistyczny serwis techniczny i obsługa oferowanego sprzętu, szkolenia użytkowników i wsparcie aplikacyjne

Serwis techniczny

WYTWARZANIE
WARSTW, BADANIE POWIERZCHNI

Reaktory RIE, CVD, ALD i MBE do modyfikowania powierzchni i nakładania warstw oraz tribometry, scratch testery, elipsometry i twardościomierze do badania ich właściwości

Badanie warstw

Wytwarzanie warstw

Technika MOCVD

Reaktor MOCVD Propel™ firmy Veeco wykorzystywany jest do wytwarzania półprzewodnikowych urządzeń elektroniki mocy. Komora wzrostu wyposażona jest w platformę na jedno podłoże (6” i 8”, oraz specjalne uchwyty na podłoża mniejsze), na którym możliwe jest osadzanie wysokiej jakości warstw GaN. Przełomowe technologie zastosowane przy konstrukcji reaktora (TurboDisc®, IsoFlange™, SymmHeat™) zapewniają (…)

Więcej

Technika ALD

Reaktory SI ALD firmy Sentech Instruments służą do osadzania cienkich warstw techniką Atomic Layer Deposition (ALD). Reaktory te są przeznaczone do laboratoriów akademickich oraz do produkcji niskoskalowej. W trakcie procesu ALD, w wyniku kontrolowanego, sekwencyjnego wprowadzania do komory reakcyjnej prekursorów w fazie gazowej, które kolejno ulegają chemisorpcji na podłożu, tworzona (…)

Więcej

Technika MBE

Modele: GENxplore: podłoża ≤3”, komora wzrostu w konfiguracji pionowej, max. 10 komórek efuzyjnych, transfer ręczny, system badawczy GEN10: podłoża ≤3”, komora wzrostu w konfiguracji pionowej, max. 10 komórek efuzyjnych, transfer automatyczny, e-beam, system badawczy GEN930: podłoża ≤3”, komora wzrostu w konfiguracji pochylonej, 9(+2) komórek efuzyjnych, transfer ręczny, e-beam, system badawczy GEN20(A): podłoża ≥4”, komora wzrostu w konfiguracji (…)

Więcej

Reaktor Depolab 200

Depolab 200 firmy SENTECH Instruments GmbH to podstawowy system do wspomaganego plazmą chemicznego osadzania warstw z fazy gazowej (PECVD). Reaktor umożliwia osadzanie standardowych warstw dielektrycznych na podłożach o średnicy do 200 mm. Plazma generowana jest pojemnościowo (CCP) z wykorzystaniem generatora RF o częstotliwości 13,56 MHz i mocy 300 W. Komora (…)

Więcej

Oferta

  • bruker
  • cryometal
  • edax
  • ThermoFisher Scientific
  • hwi
  • icdd
  • kleindiek
  • leica
  • phi
  • sentech
  • sios
  • spi
  • table
  • veeco