Reaktor MOCVD Propel™ firmy Veeco wykorzystywany jest do wytwarzania półprzewodnikowych urządzeń elektroniki mocy. Komora wzrostu wyposażona jest w platformę na jedno podłoże (6” i 8”, oraz specjalne uchwyty na podłoża mniejsze), na którym możliwe jest osadzanie wysokiej jakości warstw GaN. Przełomowe technologie zastosowane przy konstrukcji reaktora (TurboDisc®, IsoFlange™, SymmHeat™) zapewniają (…)

Reaktory SI ALD firmy Sentech Instruments służą do osadzania cienkich warstw techniką Atomic Layer Deposition (ALD). Reaktory te są przeznaczone do laboratoriów akademickich oraz do produkcji niskoskalowej. W trakcie procesu ALD, w wyniku kontrolowanego, sekwencyjnego wprowadzania do komory reakcyjnej prekursorów w fazie gazowej, które kolejno ulegają chemisorpcji na podłożu, tworzona (…)