Labsoft

Mikroskopia
Optyczna

Pełna oferta dla laboratoriów przemysłowych i badawczych obejmująca mikroskopy stereoskopowe, cyfrowe, złożone i konfokalne oraz kamery i oprogramowanie

Mikroskopia Optyczna

MIKROSKOPIA
SIŁ ATOMOWYCH
I PROFILOMETRIA

Mikroskopy AFM i SPM, szeroki wybór trybów pracy i sond AFM, profilometry optyczne i stykowe

Mikroskopia AFM

MIKROSKOPIA ELEKTRONOWA
TEM, STEM, SEM, DB

Kompletna oferta mikroskopów EM i wyposażenia analitycznego EDS, WDS, EBSP, oraz techniki kriogeniczne, litografia, mikromanipulatory, instrumenty i materiały do preparatyki próbek

Mikroskopia Elektronowa

SERWIS
I WSPARCIE

Specjalistyczny serwis techniczny i obsługa oferowanego sprzętu, szkolenia użytkowników i wsparcie aplikacyjne

Serwis techniczny

WYTWARZANIE
WARSTW, BADANIE POWIERZCHNI

Reaktory RIE, CVD, ALD i MBE do modyfikowania powierzchni i nakładania warstw oraz tribometry, scratch testery, elipsometry i twardościomierze do badania ich właściwości

Badanie warstw

SENresearch 4.0 – nowy elipsometr spektroskopowy

21-03-2016

Miło nam poinformować, że firma SENTECH Instruments GmbH wprowadziła nowy elipsometr spektroskopowy – SENresearch 4.0. Jest to urządzenie o największym zakresie widmowym i najwyższej rozdzielczości spektralnej. SENresearch 4.0 przeznaczony jest do wyznaczania właściwości optycznych i strukturalnych szerokiego zakresu materiałów. Mimo wysokiego poziomu zaawansowania, obsługa urządzenia jest prosta i intuicyjna.

SENresearch4_0_1

SENresearch 4.0 to:

  • Najszerszy zakres spektralny jedyny elipsometr na rynku, który może być konfigurowany w zakresie widmowym od 190 do 3500 nm (UV-VIS-NIR). Wykorzystanie spektrofotometru FTIR umożliwia wyznaczanie grubości dla powłok nawet 200 µm;
  • Oprogramowanie SpectraRay/4 – wszechstronne oprogramowanie, oparte na systemie WINDOWS 7, które oprócz akwizycji danych pomiarowych umożliwia modelowanie, symulacje i dopasowanie modeli do danych eksperymentalnych. Oprócz standardowych funkcji, SpectraRay/4 pozwala na zaawansowaną analizę pomiarów uzyskanych przy różnych kątach padania i łączonych pomiarów fotometrycznych. Oprogramowanie zawiera bazę ponad 200 materiałów oraz 30 różnych modeli dyspersyjnych, co umożliwia modelowanie odpowiedzi optycznej dla niemal każdego typu materiału. Akwizycja danych pomiarowych może odbywać się w sposób rutynowy lub interaktywny;
  • Tryb skanowania SSA (Step Scan Analyser) – tryb nie wymagający ruchu elementów toru optycznego w czasie akwizycji, co znacznie zmniejsza czas pomiaru;
  • Konstrukcja modułowa – ułatwiająca rozbudowę urządzenia o dodatkowe akcesoria i opcje. Pośród nich znaleźć można m.in. stoliki do mapowania, opcję 2C do wyznaczania wszystkich elementów macierzy Muellera, system automatycznego dostrajania wysokości i pochyłu, mikrospoty, celki cieczowe, stoliki grzewcze i chłodzące, uchwyt do pomiarów transmisyjnych;
  • Precyzyjny goniometr – ręczny lub automatyczny goniometr o nowej konstrukcji pozwala na wykonywanie pomiarów w szerokim zakresie kątowym od 20 do 100 °. Enkodery optyczne zapewniają najwyższą precyzję i długotrwałą stabilność ustawień kątowych;
  • Mikrokontroler – stabilny mikrokontroler firmy SENTECH sterujący całym osprzętem elipsometru;
  • Szeroki zakres zastosowań wyznaczanie grubości i parametrów optycznych materiałów objętościowych, pojedynczych warstw izotropowych i anizotropowych oraz układów wielowarstwowych. Wyznaczanie chropowatości powierzchni oraz interfaz, badań materiałów z gradientem właściwości, powłok porowatych, ultracienkich warstw, w tym warstw o grubości subnanometrycznych. SENresearch 4.0 został zaprojektowany m.in. do wymagających aplikacji z obszaru R&D, w tym pomiarów właściwości cienkich warstw na szkle, polimerów elektroluminescencyjnych i półprzewodnikowych, złożonych układów półprzewodnikowych i struktur mikroelektronicznych, w tym SOI oraz zawierających warstwy „high-k” i „low-k”.
  • bruker
  • cryometal
  • edax
  • fei
  • hwi
  • icdd
  • kleindiek
  • leica
  • phi
  • sentech
  • sios
  • spi
  • table
  • veeco