W dniach 17, 18 i 19 listopada 2020 firma Physical Electronics (PHI) organizuje wirtualny workshop poświęcony powierzchniowym metodom badawczym dostępnym w urządzeniach tej doświadczonej i szanowanej firmy. W tych dniach, od wtorku do czwartku, między godziną 17 a 19, wszyscy zainteresowani będą mogli posłuchać o rentgenowskiej spektroskopii fotoelektronów (XPS), spektroskopii masowej z czasem przelotu (ToF-SIMS) i spektroskopii elektronów Augera (AES), ich zastosowaniach oraz nowych rozwiązaniach technicznych. Wykłady, w większości poświęcone rzeczywistym problemom badawczym – naukowym, aplikacyjnym i przemysłowym, będą prezentowane przez naukowców – użytkowników urządzeń PHI oraz specjalistów aplikacyjnych PHI. Niektóre z wystąpień będą poświęcone zagadnieniom ogólnym, np. preparatyce próbek i dobrej praktyce rejestracji danych. Pełny program workshopu znajduje się poniżej. Udział w workshopie jest bezpłatny i dostępny dla wszystkich, w tym dla użytkowników urządzeń innych firm oraz dla osób potencjalnie zainteresowanych analizą składu powierzchni.

Serdecznie zapraszamy!

Dodatkowe informacje oraz link rejestracyjny można znaleźć po kliknięciu w link PHI’s Virtual Fall Workshop.

Informacje o produktach firmy PHI można znaleźć tu.

Aktualny program workshopu (wg naszego czasu)

17 XI (wtorek):

17:00-17:20 John Newman, PHI USA – “Welcome and what’s new at PHI”

17:20-17:45 Ashley Maloney, PHI USA – “AES Analysis of Area Selective Deposition Selectivity Loss in Atomic Layer Deposition/Atomic Layer Etching Supercycles”

17:45-18:10 Anja Vanleenhove, IMEC, Belgium –  “Buried Interface and Buried Film Analysis Using Lab-Scale HAXPES Instrument”

18:10-18:35 Nathaniel Rieders, Montana State University – “New Insights into Sulfide Inclusions in 1018 Carbon Steels”

18:35-19:00 Alberto Herrera, CINVESTAV-Queretaro, Mexico – “Three Issues Related to XPS Data Acquisition: Angular Aperture for ARXPS, „Magic” Angle, and Data Alignment”

18 XI (środa):

17:00-17:05 – Welcome and agenda

17:05- 17:30 Derrick M. Poirier, 3M, USA – “Using Post-it© Notes to Prevent LaB6 Deactivation”

17:30-17:55 Robert Hamers, University of Wisconsin Madison, USA – “XPS and UPS studies of chemically functionalized diamond surfaces”

17:55-18:20 Bill Stickle, HP, USA – “Surface Chemical Microanalysis”

18:20-18:45 Sebastiaan Van Nuffel, Penn State University, USA – “Biological ToF-SIMS”

18:45-19:10 Fred Stevie,  North Carolina State University, USA – “Sample handling, preparation and mounting for XPS and other surface analytical techniques”

19 XI (czwartek):

17:00-17:05 – Welcome and agenda

17:05-17:30 Zhongrui Li, University of Michigan, USA – “Oxidation state effects on the Auger transitions in 3d transition-metal compounds”

17:30-17:55 Greg Fisher, PHI USA “New developments and applications using TOF-SIMS”

17:55-18:20 Peng Li, University of Alberta, Canada –  “VersaProbe III – A Versatile Scanning XPS system for a Core-Facility- XPS”

18:20-18:45 Anass Benayad, CEA, Liten, France – “From Post-Mortem to Operando XPS, A New Approach for Lithium/Electrolyte Interface Study”

18:45-19:00 Jennifer Mann, PHI USA  – “XPS Depth Profiling of Metal-Halide Perovskites”