XRD, SCXRD DIFFRACTOMETERS,
EDXRF, WDXRF, μXRF SPECTROMETERS
Full range of powder and single crystal diffractometers and analytical XRF and microXRF spectrometers.

(Polski)
Układ podawania gazów składa się z 4 linii (opcjonalnie więcej linii oraz dodatkowe skrzynki gazowe), wyposażonych w filtry i kontrolery przepływu. Urządzenie może być skonfigurowane do trawienia związków półprzewodnikowych z grupy III-V (GaAs, GaSb, InP, GaN, InSb, InGaAs), związków MCT, dielektryków, kwarcu, szkła, krzemu, związków krzemu (SiC, SiGe), oraz metali.
(Polski)
Możliwość osadzania na podłożach o rozmiarach 8 cali oraz, przy wykorzystaniu specjalnych uchwytów, na podłożach mniejszych tj. 3, 4 oraz 6 cali i próbkach małych, o nieregularnych kształtach.
(Polski)
Dostępnych jest kilka modeli, które różnią się sposobem generacji plazmy, rozmiarem akceptowanych podłoży oraz dostępnością chłodzenia podłoży ciekłym azotem. Reaktory RIE można zestawić w postaci klastra.
Modele:
(Polski)
Dla wygody pracy z urządzeniem min. wymiary pomieszczenia to 3 x 4 m. Dodatkowo powinno zostać przewidziane miejsce na pomieszczenie techniczne na pompy próżniowe, skrzynki gazowe itd.. Niezbędne będą instalacje gazowe (gazy procesowe i techniczne) oraz instalacja wodna. W pomieszczeniu muszą znaleźć się wyciągi w suficie/ścianie, do odprowadzenia gazów procesowych.