DYFRAKTOMETRY XRD, SCXRD,
SPEKTROMETRY EDXRF, WDXRF, μXRF
Szeroka gama proszkowych i monokrystalicznych dyfraktometrów oraz spektrometrów XRF i microXRF.

Depolab 200 firmy SENTECH Instruments GmbH to podstawowy system do wspomaganego plazmą chemicznego osadzania warstw z fazy gazowej (PECVD). Reaktor umożliwia osadzanie standardowych warstw dielektrycznych na podłożach o średnicy do 200 mm. Plazma generowana jest pojemnościowo (CCP) z wykorzystaniem generatora RF o częstotliwości 13,56 MHz i mocy 300 W. Komora reakcyjna wykonana jest z aluminium bez połączeń spawanych i skręcanych. Podłoża wprowadzane są bezpośrednio do komory reakcyjnej po jej zapowietrzeniu i uniesieniu do góry.
Układ podawania gazów składa się z 5 linii (opcjonalnie dodatkowe linie gazowe) wyposażonych w filtry i kontrolery przepływu. Łatwe w obsłudze oprogramowanie umożliwia automatyczne i ręczne sterowanie procesami oraz tworzenie i wykonywanie własnych procedur technologicznych. Dzięki modularnej budowie reaktor można łatwo doposażyć w pompę turbomolekularną, spektrometr optyczny oraz generator LF o mocy do 500 W (stosowany do kontroli naprężeń osadzanych warstw).
Urządzenie może być skonfigurowane do osadzania SiO2, SiNx, SiOxNy, oraz warstw a-Si. Temperatura podłoża w trakcie procesów jest regulowana w zakresie od 200 do 400 °C.
Możliwość osadzania na podłożach o rozmiarach do 8 cali oraz, przy wykorzystaniu specjalnych uchwytów, na fragmentach podłoży, w tym fragmentach o nieregularnych kształtach.
Dla wygody pracy z urządzeniem min. wymiary pomieszczenia to 3 x 4 m. Dodatkowo powinno zostać przewidziane miejsce na pomieszczenie techniczne na pompy próżniowe, skrzynki gazowe itd.. Niezbędne będą instalacje gazowe (gazy procesowe i techniczne) oraz instalacja wodna. W pomieszczeniu muszą znaleźć się wyciągi w suficie/ścianie, do odprowadzenia gazów procesowych.