DYFRAKTOMETRY XRD, SCXRD,
SPEKTROMETRY EDXRF, WDXRF, μXRF
Szeroka gama proszkowych i monokrystalicznych dyfraktometrów oraz spektrometrów XRF i microXRF.
Reaktory SI 500
Uniwersalne systemy SI 500 firmy SENTECH Instruments GmbH do reaktywnego trawienia jonowego (RIE) różnych materiałów umożliwiają prowadzenie nawet najbardziej wymagających procesów w sposób powtarzalny. W zależności od modelu plazma jest generowana indukcyjnie (ICP) lub pojemnościowo (CCP). Komora reakcyjna wykonana jest z aluminium bez połączeń spawanych i skręcanych. Podłoża wprowadzane są przez komorę ładowania, wyposażoną w transfer. Ciśnienie w komorach jest kontrolowane przez automatyczny układ próżniowy. Łatwe w obsłudze oprogramowanie umożliwia automatyczne i ręczne sterowanie procesami oraz tworzenie i wykonywanie własnych procedur. Systemy SI 500 dedykowane są dla przemysłu oraz laboratoriów badawczo-rozwojowych.
FAQ
-
Jakiego typu materiały można trawić przy wykorzystaniu reaktora SI 500?
Układ podawania gazów składa się z 4 linii (opcjonalnie więcej linii oraz dodatkowe skrzynki gazowe), wyposażonych w filtry i kontrolery przepływu. Urządzenie może być skonfigurowane do trawienia związków półprzewodnikowych z grupy III-V (GaAs, GaSb, InP, GaN, InSb, InGaAs), związków MCT, dielektryków, kwarcu, szkła, krzemu, związków krzemu (SiC, SiGe), oraz metali.
-
Jakie rozmiary i kształt powinna mieć próbka?
Możliwość osadzania na podłożach o rozmiarach 8 cali oraz, przy wykorzystaniu specjalnych uchwytów, na podłożach mniejszych tj. 3, 4 oraz 6 cali i próbkach małych, o nieregularnych kształtach.
-
Jakie modele są dostępne?
Dostępnych jest kilka modeli, które różnią się sposobem generacji plazmy, rozmiarem akceptowanych podłoży oraz dostępnością chłodzenia podłoży ciekłym azotem. Reaktory RIE można zestawić w postaci klastra.
Modele:
- SI 500 (ICP, 200 mm, -20 – 300 °C)
- SI 500 C (ICP, ciekły N2, 200 mm, -150 – 400 °C)
- SI 500-300 (ICP, 300 mm, -30 – 80 °C)
- SI 500 RIE (CCP, 200 mm, -30 – 250 °C)
-
Czy pomieszczenie, w którym będzie zainstalowane urządzenie, musi spełniać szczególne wymagania?
Dla wygody pracy z urządzeniem min. wymiary pomieszczenia to 3 x 4 m. Dodatkowo powinno zostać przewidziane miejsce na pomieszczenie techniczne na pompy próżniowe, skrzynki gazowe itd.. Niezbędne będą instalacje gazowe (gazy procesowe i techniczne) oraz instalacja wodna. W pomieszczeniu muszą znaleźć się wyciągi w suficie/ścianie, do odprowadzenia gazów procesowych.
