Modele:
GENxplore: podłoża ≤3”, komora wzrostu w konfiguracji pionowej, max. 10 komórek efuzyjnych, transfer ręczny, system badawczy
GEN10: podłoża ≤3”, komora wzrostu w konfiguracji pionowej, max. 10 komórek efuzyjnych, transfer automatyczny, e-beam, system badawczy
GEN930: podłoża ≤3”, komora wzrostu w konfiguracji pochylonej, 9(+2) komórek efuzyjnych, transfer ręczny, e-beam, system badawczy

GEN20(A): podłoża ≥4”, komora wzrostu w konfiguracji pionowej, 12 komórek efuzyjnych, transfer ręczny (automatyczny), e-beam, system do wdrażania produkcji lub produkcji pilotażowej
GEN200: podłoża ≥4”, komora wzrostu w konfiguracji pionowej, 12 komórek efuzyjnych, transfer automatyczny, e-beam, system do produkcji na małą skalę lub prowadzenia badań na podłożach 6”/8”
GEN2000: podłoża ≥4”, komora wzrostu w konfiguracji pionowej, 12 komórek efuzyjnych, transfer automatyczny, e-beam, system do produkcji wielkoskalowej

formularz kontaktowy

Inne techniki depozycji: (PE)CVD – Depolab 200, SI 500 D i SI 500 PPD, ALD, MOCVD

Produkty powiązane: XPS, MOCVD