Szanowni Państwo,

W dniu 16 kwietnia (czwartek) 2020 o godz. 17.00 firma Physical Electronics (PHI) organizuje webinarium pt.

Avoiding misinterpretations in the spectroscopic analysis of heterogeneous materials: the role of small area XPS analysis

Udział w webinarium jest bezpłatny. Link rejestracyjny znajduje się tutaj.

Prezentacja będzie poświęcona możliwościom spektrometrów XPS z małą i skanującą wiązką promieniowania X w porównaniu do spektrometrów z wiązką dużą i stacjonarną. Przewaga spektrometrów skanujących jest wyraźna na próbkach niejednorodnych powierzchniowo. Możliwość uzyskania obrazu powierzchni poprzez detekcję elektronów wtórnych (generowanych wiązką rentgenowską) daje możliwość łatwego wyszukiwania cech na próbce do dalszej analizy XPS. Ponadto, możliwe jest mapowanie składu chemicznego z rozdzielczością lateralną na poziomie średnicy wiązki (tu ~10 µm). Dla odmiany, analiza XPS przy pomocy dużej i statycznej wiązki daje jedynie wynik uśredniony po jej średnicy. W prezentacji zostaną pokazane liczne przykłady analizy XPS próbek niejednorodnych – z zanieczyszczeniami powierzchniowymi, po testach tribologicznych i korozyjnych, przekroje multiwarstw i wreszcie małe obiekty w innych matrycach/osnowach.

Dodatkowe informacje w języku angielskim można znaleźć tutaj.

Wspomniana technologia dająca możliwość uzyskania rentgenowskiej wiązki skanującej jest dostępna we wszystkich spektrometrach XPS firmy PHI – czołowego dostawcy spektrometrów fotoemisyjnych, AES i ToF-SIMS.

Wszystkie prezentacje i webinary PHI można znaleźć na kanale YT. Obecnie dostępne są następujące pozycje.

XPS/HAXPES:

• Scanning X-ray Imaging (SXI) – obrazowanie SXI elektronami wtórnymi wzbudzonymi przez promieniowanie rentgenowskie oraz jego zastosowanie do spektroskopii XPS/AES
• Determining Bulk & Interface Chemical Damage Regimes in XPS Depth Profiling using Cluster Ion Beams – profilowanie XPS z wykorzystaniem dział Ar, C60 i klastrowego Ar; ocena zakresu zastosowań
• PHI Quantes: XPS/HAXPES Scanning Microprobe – wprowadzenie do twardej spektrometrii fotoelektronów (HAXPES); spektrometr PHI Quantes z automatyczną, podwójną katodą Al/Cr do XPS i HAXPES
• XPS Analysis of Multilayer Films Using Hard and Soft X-Rays on the PHI Quantes – zastosowanie XPS i HAXPES do analizy multiwarstw; spektrometr PHI Quantes
• Ion Gun Options & Capabilities on Physical Electronics XPS Systems – dobór dział jonowych do profilowania wgłębnego i czyszczenia powierzchni; spektrometr Versa Probe

ToF-SIMS:

• Applications of TOF-SIMS Tandem MS in Industrial Applications – zastosowanie tandemowej spektrometrii mas ToF-SIMS (MS/MS) w przemyśle
• Applications of TOF-SIMS MS/MS for Industrial Problem Solving – zastosowanie tandemowej spektrometrii mas ToF-SIMS (MS/MS) do rozwiązywania problemów w przemyśle, spektrometr nanoTOF
• A New Method to Probe the Composition of Cellular Organelles using Tandem MS – spektrometria masowa ToF-SIMS MS/MS do analizy organelli komórkowych, spektrometr nanoTOF

AES:

• PHI 710 Multi-Technique Scanning Auger Nanoprobe for Advanced Materials Characterization – webinarium poświęcone spektrometrowi elektronów AES PHI710 i technice AES
• Auger Electron Spectroscopy Analysis of Fresh and Aged Alumina Supported Silver Catalysts – zastosowanie techniki AES do analizy materiałów katalitycznych; spektrometr PHI 710
• Auger Multi-Technique – EDS, EBSD, BSE & FIB – spektrometr AES PHI 710 wraz z technikami dodatkowymi EDS, EBSD, BSE i działem FIB

Techniki komplementarne:

• Surface Analysis on Insulators – analiza próbek o niskim przewodnictwie elektronowym z wykorzystaniem technik XPS, AES i ToF-SIMS
• Complementary XPS & TOF-SIMS Analysis – komplementarne badania technikami XPS i ToF-SIMS
• Characterizing Natural Photonic Crystals in Damselfly Wings using 3D TOF-SIMS & XPS – zastosowanie XPS i ToF-SIMS do analizy naturalnych kryształów fotonicznych

Właściwości elektronowe:

• LEIPS, REELS & UPS Presentation – wprowadzenie do technik LEIPS, REELS i UPS; spektrometr VersaProbe
• Electronic Band Structure Characterization using LEIPS & UPS on MultiTechnique XPS – wykorzystanie LEIPS i UPS do wyznaczania właściwości elektronowych; spektrometr VersaProbe